英飞凌专*的无铅黏晶(芯片粘接) 175μm),为功率半导体提供多项改良:
环保的技术:不使用线索及其他有毒物质。
扩散焊接黏晶技术结合薄晶圆制程:大幅降低封装的导通电阻值的RDS(on)。
热阻(RthJC)改善率高达40 - 50%:传统的软线索焊料的热传导能力不佳,阻碍了MOSFET的接面之散热。
其他优点还包括:由于没有焊锡流量迹(出血)及晶片倾斜(芯片tiltness)的问题,以及更收敛的RDS(ON)与RthJC
从新款的OptiMOS T2 40V(如:IPB160N04S4 - 02D,160A)的规格产品得知,其RDS(ON)仅2.0mΩ且RthJC仅0.9K / W相较于使用标准线索焊接的同类产品,其导通电阻降低了约20%的OptiMOS T2的产品拥有同级产品中最佳效能。
上市时间
OtpiMOS T2为业界率先采用至无铅封装的车用电源的MOSFET的,系列产品包括IPB160N04S4 - 02D(160A,TO - 263封装),IPB100N04S4 - 02D(100A,TO - 263),IPP100N04S4 - 03D(100A,TO - 220 )以及IPI100N04S4 - 03D(100A,TO - 262)皆已上市。