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Jenoptik推出新型激光器

放大字体缩小字体发布日期:2014-10-10 来源:[标签:出处] 作者:[标签:作者] 浏览次数: 97
核心提示:
系列产品之一,其基于薄片 激光器技术,确保出众的参数稳定性并为飞秒激光器产品设立新的行业标准。

  该激光器可发射出高达40μJ的高脉冲能量,并且在输出功率高达4W的情况下,其运行的频率范围为30-200kHz。光束质量M2 ≤1.25且脉冲间隔≤400fs,有助于实现工业激光器应用创新,例如光伏领域。值得注意的是在加工由多种材料组成的多层系统时的选择性单层膜移除功能。实际的工业应用是移除晶硅太阳能电池中的绝缘层。

  飞秒激光器为用户提供非破坏性薄层移除的优势,因为没有激光热量被转移到晶硅太阳能电池上。

  对于工业用途,激光器的工作温度范围被扩展至15-35°C。为了确保工业适用性,每个激光器都要经过严格的类型检查,在此过程中,将验证典型运输、储存和操作条件下的安全功能。其中还包括气候和冲击试验、抗外界电干扰性以及关于电辐射透射的电磁兼容性(EMC)标准的合规性。需要额外关注的是,客户能够将完整的激光器轻松地整合入复杂的机器和系统中。例如,可以通过软件或硬件控制每个驱动信号。

  Jenoptik公司的JenLas D2.fs 是一款对医疗应用领域同样具有优化性能的飞秒激光器。该激光器的设计融合了高脉冲频率(高达200kHz)操作与卓越的光束特性,它能够在器官组织中生成显微构造,同时不引起任何相关的热量输入。

  薄片激光器技术为性能需求的灵活性提供了坚实基础。

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