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牛津仪器作为世界领先的等离子刻蚀和沉积系统供应商，不断致力于改善和开发该系统，以便为客户提供提供最好的设备。
新系统的作用：
? 伴随高品质的二氧化硅和氮化硅沉积速率，PECVD硬件进一步演变，相应的减少清机时间成本。
? 新一代Cobra ICP系统改善了刻蚀率和线宽操控功能。
? 具有业界公认的机械手功能，巩固了牛津仪器在“即插即用”的硬件和优化程序方面的领先地位。
? 增强了控制系统的基础设施，具有更好的分析、可靠性和可维护性。
PlasmaPro 100是一个高配置的系统，既可以作为独立腔体模块，也可以多腔配置。
“正常运行时间超过90%，这个数据证明了我们设备的技术和自动化在业内处于领先地位，”高级产品经理Ian McKinlay谈到，“此新产品做到真正的改进，具有良好的均匀性，并在应用范围内提供高产能程序。我们独家拥有6000多个工艺参数。凭借此项优势，25年来牛津仪器在业界一直处于领先地位，同时也确保了我们能将优异的产品提供给客户。”
PlasmaPro 100系统
