2013年度光子学及激光领域前20大进展

网讯：光子学世界中的人们擅长的是提出新奇的点子和发明有趣的新鲜事物，同时他们还不断的推动着现有的光子学技术进步。接下来将为你带来2013年度光子学及激光领域的前20大进展：

及其测试方法

已经实现了商业化生产，第一台产品在今年的早些时候被运送到NADEX激光研发中心(位于日本名古屋)，该中心主要针对激光器的材料处理性能开展详细研究。对于这台激光器，Ophir Photonics公司(位于犹他州北洛根)特意研发了一种激光功率计，在输出1070纳米的激光时，测程能够覆盖到100千瓦。

)进行光刻而言，现如今的技术已经发展到了极限，光刻技术的发展的新方向就是13纳米的极紫外(EUV)光刻。与以前一样的是，光学系统的数值孔径(NA)越大，其分辨率越高。